◆ 基于原子模型的精确湿法刻蚀工艺模拟;

◆ 集成 DRIE 和多次掩膜复合工艺功能;

◆ 基于八叉树和并行计算的元胞自动机及动力学蒙特卡罗模型;

◆ 完备的刻蚀工艺数据库，面向用户的开放的接口;

◆ 可定义和切割任意高指数晶面;

◆ 精确描述腐蚀表面形貌;

◆ 兼容 IntelliMask 版图文件和 Bmp 掩膜文件;

◆ 输出 FEM 网格数据;

◆ 基于 GPU 大规模并行计算的 IntelliEtchG;

◆ Wagon Wheel Analyzer 硅刻蚀速率提取工具;

◆ Etch Rate Visualizer / CCA calibrator 硅刻蚀速率可视化及校准工具;

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