
芯片制造计算光刻
芯片制造中的计算光刻(Computational Lithography)软件是用来模拟和优化光刻过程的一类工具,广泛应用于半导体工艺中,尤其是在先进的工艺节点(如7nm、5nm、3nm等)中。随着工艺的不断缩小,传统的光刻技术面临诸多挑战,计算光刻通过引入数值仿真和优化技术来帮助设计师克服这些挑战,确保芯片能够在预定工艺条件下顺利制造。 计算光刻软件的主要目标是优化光刻过程中的图形转移,以确保版图设计中的微小特征能够准确地转移到硅片上。这些工具通过模拟不同光刻参数(如光源、掩模、照射角度、曝光等)对图形的影响,从而提升制造过程的精度和良率。
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