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Calibre OPCverify是Calibre nmOPC的配套OPC验证工具,是锚定下一代分辨率增强技术和制造解决方案设计的基石技术。当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术(RET)应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因,这导致了更高的硅故障率。为了减少错误,在将设计发送给掩模或晶圆制造商之前,需要一个OPC后验证步骤来检测故障。
1、先进工艺条件下的精确晶圆轮廓模拟,包括浸没式光刻
2、支持多种OPC使用模式,包括OPC配方验证、掩码签署、岩性友好设计、VT5和光学
3、用于CD错误、间距错误、桥接和挤压检查以及两层检查的预定义和自定义脚本
4、易于定制并集成到现有流程中
5、Calibre Hierarchy polygon processing engine为所有岩性模拟提供了单一、精确的建模基础
6、高处理可扩展性确保了掩模操作的必要周转时间
7、没有专用硬件;在所有领先平台上运行