1、先进工艺条件下的精确晶圆轮廓模拟,包括浸没式光刻
2、支持多种OPC使用模式,包括OPC配方验证、掩码签署、岩性友好设计、VT5和光学
3、用于CD错误、间距错误、桥接和挤压检查以及两层检查的预定义和自定义脚本
4、易于定制并集成到现有流程中
5、Calibre Hierarchy polygon processing engine为所有岩性模拟提供了单一、精确的建模基础
6、高处理可扩展性确保了掩模操作的必要周转时间
7、没有专用硬件;在所有领先平台上运行
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