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Calibre OPCverify：光学邻近效应修正验证保障掩模数据质量
Calibre OPCverify：光学邻近效应修正验证保障掩模数据质量 在先进半导体制造工艺中，当光刻线宽进入亚波长范畴后，光学邻近效应会导致硅片上实际成像图形与设计版图之间产生显著偏差。光学邻近效应修正技术通过在掩模上对图形进行预畸变来...
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Calibre OPCverify：光学邻近效应修正验证保障掩模数据质量 在先进半导体制造工艺中，当光刻线宽进入亚波长范畴后，光学邻近效应会导致硅片上实际成像图形与设计版图之间产生显著偏差。光学邻近效应修正技术通过在掩模上对图形进行预畸变来...
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