Calibre nmOPC

Calibre nmOPC

Calibre nmOPC 是西门子 EDA 的第三代光学邻近效应修正（OPC）工具，扩展了 Calibre 分辨率增强技术（RET）产品线，面向 65 纳米及以下的工艺节点。

主要能力

• 面向先进工艺节点的光学邻近效应修正，提升光刻成像分辨率与图形保真度
• 支持多层输入驱动修正算法，使关键设计特征按设计意图图案化，兼顾参数良率
• 支持 OASIS 格式输出以减小文件体积，内置层次化处理流程优化运行时间与文件大小
• 提供进度指示与动态 CPU 分配，便于量产环境中的周转时间管理

适用场景

该工具是 Calibre 计算光刻套件的组成部分，与 OPCverify、OPCpro、WORKbench 等协同工作，用于晶圆代工与集成器件制造商的光刻数据准备，是深亚微米及以下节点制造中的关键环节。

该工具还支持与双图形（double patterning）技术的结合使用，在更小节点下配合多重图形获得更高的图形保真度，并可与 Calibre 掩模数据准备流程衔接。

厂商信息

该产品由西门子数字化工业软件提供，其前身为 Mentor Graphics，属于西门子 EDA 的 Calibre 计算光刻产品线。