Calibre nmMPC是一种用于芯片设计和验证的工具，提供了专门为电子束掩模书写器开发的优化。这个工具被广泛应用于半导体行业，用于进行芯片级别的物理验证、版图设计和芯片制造。它提供了先进的芯片级别的版图设计和验证功能，有助于工程师们确保他们的芯片设计符合规范并且能够成功制造。Calibre nmMPC在半导体行业中扮演着重要的角色，帮助工程师们确保他们的芯片设计达到高质量、高性能和可靠性的要求。

制造商 Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件 Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件
德国 > 慕尼黑
主要功能 芯片制造计算光刻
软件类型 商业软件
部署方式 本地部署
操作系统 Windows

icon产品特点

1、Calibre nmMPC通过基于密度的偏置模型和基于物理掩模测量的可变蚀刻偏置（VEB）校准模型的组合处理长、中、短程效应。

2、Calibre nmMPC还包括与Calibre workbench集成的掩模模型构建和定制工具。

3、并针对电子束掩模书写器进行了优化

4、新的校正和建模功能，包括基于密度和可变蚀刻偏置建模，改善高级节点的掩模CD线性度和均匀性。

5、Calibre Workbench集成的面具模型构建和定制工具。

6、包括用于掩模规则检查和签署的工具，以及用于领先的电子束掩模写入设备的断裂和数据转换。

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