Calibre OPC pro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺自由度。Calibre OPC pro使用面向批量的流程，对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形

制造商 Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件 Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件
德国 > 慕尼黑
主要功能 芯片制造计算光刻
软件类型 商业软件
部署方式 本地部署
操作系统 Windows

icon产品说明

Calibre OPCpro支持基于规则和模拟的校正，并使用根据测量的制造工艺特征开发的光学和工艺模型模拟校正结果。OPC pro和nm OPC都具有纠正相移布局的能力，包括门的衰减和替代PSM。

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