芯片制造计算光刻软件合集

Synopsys Proteus 全芯片掩模合成系列是领先的 IDM 和代工厂的首选产品，并且已经过二十年的生产验证，支持最新的 EUV 光刻工艺。

借助 Synopsys Proteus 系列，用户可以在邻近校正、校正模型构建以及分析对校正和未校正 IC 布局图形的邻近效应方面实现卓越的精度、效率和速度，从而彻底改变您的芯片制造工艺。 Synopsys Proteus 业界首个也是部署最广泛的反向光刻解决方案，具有原生曲线设计和掩模支持。Synopsys Proteus先进的紧凑型 3D 光刻胶和掩模模型以及行业独有的掩模合成工具，通过 S-Litho 提供严格的基于物理的模型支持。

Calibre Computational Lithography是Siemens旗下的芯片计算光刻软件。Calibre Computational Lithography对集成电路 （IC） 永不满足的需求继续推动更小的关键尺寸。

光刻工艺，包括极紫外 （EUV），呈现出越来越复杂和数据量。Calibre Computational Lithography解决方案可实现经济高效的技术支持。与先进工艺节点相关的光刻挑战和计算复杂性都要求在计算光刻软件和硬件方面具有高级功能。Calibre 解决方案提供一流的精度、速度和拥有成本。