Synopsys Proteus

产品定位

Synopsys Proteus 系列在邻近校正、校正模型构建以及分析校正和未校正 IC 布局图形的邻近效应方面提供卓越的精度、效率与速度，从而革新芯片制造工艺。作为全芯片掩模合成系列，它是领先 IDM 与代工厂的首选产品，经二十年的生产验证，支持最新的 EUV 光刻工艺。

核心功能

• 最大的光刻权利：业界首个也是部署最广泛的反向光刻解决方案，具备原生曲线设计与掩模支持。
• 快速周转时间：AI 驱动型解决方案，为最新 CPU 和 GPU 技术提供高级计算支持，缩短上市时间。
• 高度预测模型：先进的紧凑型 3D 光刻胶与掩模模型，通过 S-Litho 提供严格的基于物理的模型支持。

产品特点

Proteus 把掩模合成、光学邻近校正（OPC）与邻近效应建模整合到统一流程，经过多年量产验证并适用于 EUV 等先进光刻；凭借高精度的物理模型与高效计算，帮助光刻在更小工艺窗口下稳定实现目标图形，是先进节点掩模与光刻制造的核心工具。

应用价值

广泛应用于先进半导体制造的光刻与掩模环节，帮助 IDM 与代工厂获得准确、高效的邻近校正与掩模合成能力，改善图形保真度与良率，支撑先进制程的量产。

典型应用流程

在先进光刻流程中，设计版图被送往 Proteus 进行掩模合成与光学邻近校正：首先构建工艺相关的光刻与光刻胶模型，随后对其执行全芯片 OPC 与曲线化掩模修正，再通过 S-Litho 等基于物理的模型验证校正结果，并结合 AI 计算优化周转时间，最终生成适用于 EUV 等工艺的高精度掩模数据。