Synopsys Proteus

1.最大的光刻权利
业界首个也是部署最广泛的反向光刻解决方案，具有原生曲线设计和掩模支持。
 
2.快速周转时间
AI 驱动型解决方案，为最新的 CPU 和 GPU 技术提供高级计算支持，可缩短上市时间。
 
3.高度预测模型
先进的紧凑型 3D 光刻胶和掩模模型以及行业独有的掩模合成工具，通过 S-Litho 提供严格的基于物理的模型支持。