Calibre Computational Lithography对集成电路 （IC） 永不满足的需求继续推动更小的关键尺寸。光刻工艺，包括极紫外 （EUV），呈现出越来越复杂和数据量。我们的计算光刻解决方案可实现经济高效的技术支持。与先进工艺节点相关的光刻挑战和计算复杂性都要求在计算光刻软件和硬件方面具有高级功能。Calibre 解决方案提供一流的精度、速度和拥有成本。

制造商 Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件 Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件
德国 > 慕尼黑
主要功能 芯片制造计算光刻
软件类型 商业软件
部署方式 本地部署
操作系统 Windows
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