借助 Synopsys Proteus 系列，用户可以在邻近校正、校正模型构建以及分析对校正和未校正 IC 布局图形的邻近效应方面实现卓越的精度、效率和速度，从而彻底改变您的芯片制造工艺。Synopsys Proteus 全芯片掩模合成系列是领先的 IDM 和代工厂的首选产品，并且已经过二十年的生产验证，支持最新的 EUV 光刻工艺。

制造商 Synopsys Inc. 新思 Synopsys Inc. 新思
美国 > 旧金山
主要功能 芯片制造计算光刻
软件类型 商业软件
部署方式 本地部署
操作系统 Windows

icon产品特点

1.最大的光刻权利
业界首个也是部署最广泛的反向光刻解决方案，具有原生曲线设计和掩模支持。
 
2.快速周转时间
AI 驱动型解决方案，为最新的 CPU 和 GPU 技术提供高级计算支持，可缩短上市时间。
 
3.高度预测模型
先进的紧凑型 3D 光刻胶和掩模模型以及行业独有的掩模合成工具，通过 S-Litho 提供严格的基于物理的模型支持。

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