芯片制造计算光刻软件推荐

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Calibre Computational Lithography对集成电路 （IC） 永不满足的需求继续推动更小的关键尺寸。光刻工艺，包括极紫外 （EUV），呈现出越来越复杂和数据量。我们的计算光刻解决方案可实现经济高效的技术支持。与先进工艺节点相关的光刻挑战和计算复杂性都要求在计算光刻软件和硬件...