计算制造是在生产前研究设计可行性的强有力的工具。计算制造实验模拟了在单色光或者宽光谱光学监控技术条件下的生产运行情况。由于采用了极其高效的数学算法,这样的实验比实际沉积要快千百倍。这为开始新的薄膜制备和选择最稳定设计方案所必须的试验沉积过程开辟了一条新途径。所以计算制造设置,相应都有灵活方便设置对话框。
OptiLayer 计算制造选项能够评估预期的生产率,并且揭示了哪些膜层对成功的生产比较关键,需要严格控制。
在计算制造试验过程中,可以仿真那些由于沉积工艺造成的典型误差因素。这些因素包括:
• 不稳定的沉积速率,
• 在膜层沉积收尾阶段产生的随机和系统误差(闸门延迟)
• 膜层在沉积仓内的折射率和理论值的偏差
• 与波长相关的折射率偏差
• 沉积层的不均匀性
• 在线测量的噪声影响
• 监控信号的实时波动,
• 监控设备的校准偏差。OptiLayer 有一系列选项, 可以在投产前对 1/4 波长及其整数倍光学厚度的 WDM 膜和窄通带薄膜进行分析。这些计算制造试验模拟了带拐点监控装置的薄膜生产过程,同时还可以评估和比较各种 WDM 设计的生产率。