版本更新概览
西门子 Custom IC（原 Tanner EDA）套件已发布 2026.2 版本。Tanner MEMS 作为该套件中面向 MEMS 设计的核心组件（即 Tanner L-Edit MEMS 高级版图编辑器），随套件更新同步演进，继续服务于 MEMS 版图设计、掩膜编辑与 DRC 验证等环节。
核心设计能力
L-Edit MEMS 专为 MEMS 版图设计打造，具备曲面多边形与任意角度布尔运算能力，可支持各类复杂 MEMS 版图结构。与面向机械工程的 CAD 工具不同，它能够直接呈现掩膜的 Clear 与 Dark 区域，设计人员可快速绘制、编辑掩膜，并自由组合查看掩膜之间的重叠与交互情况，显著提升多掩膜工艺下的设计效率。
编辑器集成强大的曲线支持、交互式 DRC 设计规则检查、布尔运算、对象捕捉与对齐等功能，帮助设计人员在复杂几何上完成精确操作。借助交互式 DRC，版图编辑过程中即可实时发现规则违例，减少后期返工；派生层操作与复杂布尔运算支持为多工艺层设计提供更高精度。
迭代背景与收益
随着 Custom IC 2026.2 的发布，Tanner MEMS 持续获得布局编辑、库导航与工艺支持等方面的增强，为光电、微流控、惯性器件等各类 MEMS 产品的设计验证提供支撑。对使用 Tanner MEMS 的团队而言，建议关注随版本提供的布局编辑效率改进与工艺库兼容性增强，并在项目规划中评估迁移新版带来的收益。
