产品概述
Tanner 是西门子 EDA 公司面向数模混合电路、模拟电路和 MEMS 设计等研发的集成电路设计工具。随着物联网（IoT）需求的上升，全流程混合信号设计环境面临独特的要求：经济实惠且易于使用，但功能强大，可创建部署物联网所需的各类产品。Tanner 提供完整的模拟/数模混合 IC 全定制设计组件，在统一环境中支持 IC 和 MEMS 设计，拥有 25 年的 MEMS 设计经验。
核心功能
- 完整设计流程：提供完整的模拟/数模混合 IC 全定制设计组件，支持 OpenAccess、LEF/DEF、Liberty 和 SDF 数据格式。
- 多抽象级仿真：支持行为级、模块级、门级等多重抽象级网表仿真；调试和验证支持 System Verilog、Verilog、Verilog-AMS、Verilog-A 和 VHDL 等语言；支持自顶向下的混合信号仿真。
- 版图设计与验证：提供全角度版图编辑、实时 DRC 检查，DRC 和 LVS 验证与 Calibre 工具兼容；使用 SDL 加速版图设计，可进行自动布局布线，支持 HSPICE、PSPICE、Verilog 和 CDL 等格式数据导入。
- 参数化设计：支持参数化 cell（T-cell），可用于可编程接口操作（UPI），创建自动化宏；HiPer DevGen 可实现参数化器件生成版图。
- MEMS 设计：提供高度可编程的 MEMS 版图设计工具，如曲线多边形、多角操作等；参数化派生层产生工具可实现特殊 MEMS 结构设计；支持从版图生成 3D MEMS 模型；针对 MEMS 工艺的 DRC 检查。
- 数据格式兼容：支持导入和导出 GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式；支持附带边界重构的 DXF 数据格式导入导出；支持 Luceda Photonics 公司的 IPKISS.eda 工具进行硅光器件设计。
- 多语言支持：提供多语言菜单（英语、日语、简体/繁体中文、德语、意大利语和俄语等），支持多 Foundry 工艺。
应用场景
Tanner EDA 广泛应用于物联网芯片、数模混合信号 IC、模拟 IC 和 MEMS 器件的设计开发。L-Edit 提供可视化连接的节点高亮，可快速查找和定位 DRC 和 LVS 问题；完整的可视化多图层几何图形设计支持便捷地生成、摆放和对准图形。软件面向高校教育和企业研发，支持从原理图设计、版图布局到物理验证的完整集成电路设计流程。
应用价值
随着集成电路设计规模和复杂度的不断提升，电子设计自动化（EDA）工具已成为芯片研发的核心支撑。Tanner 以经济实惠且易于使用的特点，帮助设计团队缩短芯片开发周期、提升设计质量、降低流片风险，是推动物联网和 MEMS 产业创新发展的关键工具。
