Calibre MPCpro

Calibre MPCpro是一种针对电子束光刻和掩模蚀刻工艺引入的系统误差的解决方案，基于Calibre OPCpro技术进行光学工艺校正。Calibre MPCpro可纠正雾化、显影和蚀刻加载等工艺效应，以及ebeam邻近效应。掩膜工艺校正系列是基于规则和模型的产品，用于先进的光掩膜制造，校正系统性掩膜光刻和工艺误差源，确保掩膜关键尺寸特征符合规范。