Calibre MPCpro

Calibre MPCpro

Calibre MPCpro 是西门子 EDA Calibre 掩模数据准备套件中的掩模工艺修正工具，基于规则对掩模数据进行修正，补偿电子束光刻与蚀刻过程中的系统性误差。

主要能力

• 基于规则的修正，处理线性效应、穿透位移、线端缩短与长程密度效应
• 通过图形变尺寸修正雾化效应、显影与蚀刻负载以及电子束邻近效应
• 包含基于密度的长程修正函数，支持基于面积的尺寸调整、密度测量与核卷积
• 提供 OPCbias 规则修正模块，并集成于 Calibre 设计到硅平台
• 支持多种掩模写入设备数据格式与 GDSII、OASIS 输入

适用场景

该工具面向掩模制造，通过高可扩展的处理保持高质量数据，满足低公差掩模制造需求，帮助在保证数据质量的同时缩短掩模写入时间，是掩模数据准备流程中的重要修正环节。

该工具以高可扩展的分布式处理应对大规模掩模数据，在保证修正精度的同时维持较短的数据处理时间，并可与掩模规则检查协同确保数据合规。

厂商信息

该产品由西门子数字化工业软件提供，其前身为 Mentor Graphics，属于西门子 EDA 的 Calibre 制造产品线。