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Tanner MEMS 随 Custom IC 2026.2 更新：MEMS 版图设计能力持续演进
西门子 Custom IC（原 Tanner EDA）套件发布 2026.2 版本，Tanner MEMS（L-Edit MEMS）作为其中面向 MEMS 设计的核心组件随套件更新，持续强化 MEMS 版图编辑、掩膜管理与 DRC 验证能力...
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Tanner MEMS 随 Custom IC 2025.4 更新：L-Edit 布局编辑与验证能力增强
西门子 Custom IC（原 Tanner EDA）套件 2025.4 版本发布，作为套件核心组件的 Tanner MEMS（L-Edit MEMS）布局编辑器同步增强：新增非活动图层与周围几何体调暗（dimming）功能以提升布局清晰度...
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