小服AI 一、光线追迹与建模
软件内置统一的顺序与非顺序建模架构，可在同一环境中完成成像、照明与激光系统的设计，并进行精确的性能预测。顺序光线追迹用于常规成像与照明系统的像质分析与优化。非顺序光线追迹（NSC）用于处理杂散光、散射、衍射以及折叠和复杂光机结构。物理光学传播（POP）支持波前与衍射效应的建模。偏振光线追迹与镀膜分析覆盖完整的偏振态描述。
二、公差与制造能力
2026 R1 引入嵌套元件与系统公差（NEST），通过可视化引导式流程简化顺序系统的光机公差分析，支持智能枢轴预设、自动操作数插入、实时布局更新与离轴设计。NEST 通过自动插入坐标断点与公差操作数快速建立嵌套结构。配合公差与灵敏度分析模块，可在制造前评估装配与工艺偏差对成像质量的影响，降低从概念到量产的设计风险，帮助工程师以更短时间获得满足制造要求的公差方案。
三、非序列成像设计
2026 R1 将非顺序模式扩展为实用的成像工具。NSC 光阑对象支持光线与通光孔径直接交互，实现显式光阑行为。NSC 快速聚焦根据预期光线路径自动完成探测器对焦、居中与方向对齐，支持多波长与多光源系统。NSC 序列分组可按光学与物理属性对手动或自动分组管理大型光路集合，并支持动态更新与范围过滤。NSC 点列图直接在非序列模式中评估 RMS 与几何光斑尺寸等图像质量指标，并新增 RSNC 操作数支持优化。
四、需求驱动与优化
需求编辑器（实验功能）支持定义光斑、MTF、波前差、视场与一阶参数等系统级需求，可一键生成评价函数并提供通过或失败反馈，帮助工程师在早期阶段验证设计是否满足规格。高级优化算法与新增优化操作数扩展了自动寻优能力，使设计求解更加高效。
五、分析与验证
成像分析能力覆盖调制传递函数（MTF）、点扩散函数（PSF）与波前误差评估。杂散光与迷光分析覆盖完整光路。STAR 多物理场工作流支持结构、传热与光学（STOP）耦合分析，可同时评估结构、光学、流体与热效应的影响，2026 R1 改进 ZST 文件处理并集成 Granta 材料选择器，便于在光学设计中直接选用材料数据。
六、跨产品工作流与并行计算
光学设计（ODX）导出到 Speos 的增强支持棱镜、Table Glass 等真实光学设计无损集成，原 CODE V 用户可更平滑地迁移到 OpticStudio。Lumerical DLL 采用统一数据格式，改善动态链接性能。Zemax OpticStudio HPC 通过多核并行计算压缩大型公差与复杂分析的仿真时间，提升设计评估效率。ZOS-API 支持自动化与脚本扩展，并新增会话识别能力。2026 R1 还加入 Ansys 工程助手，改进 MTF 分析性能并增强 CODE V 转换器。
七、版次与版本差异
2026 R1 简化了版次选择，使授权管理更清晰。NSC 快速聚焦、NSC 序列分组与 NSC 点列图在 Premium 与 Enterprise 版中提供；Enterprise 版进一步支持 STAR 使能的 STOP 分析等高级能力。用户可按实际设计任务选择适合的版次，同时新版增强了偏振建模能力，Mueller 矩阵表面与对象以及 Jones 矩阵增强可用于更完整的偏振光学分析。
