Synopsys Inc. 新思

借助SynopsysProteus系列，用户可以在邻近校正、校正模型构建以及分析对校正和未校正IC布局图形的邻近效应方面实现卓越的精度、效率和速度，从而彻底改变您的芯片制造工艺。SynopsysProteus全芯片掩模合成系列是领先的IDM和代工厂的首选产品，并且已经过二十年的生产验证，支持最新的EUV光刻工艺。