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Calibre nmOPC 计算光刻/掩模数据处理

Calibre nmOPC是第三代光学邻近校正（OPC）工具，它扩展了分辨率增强技术（RET）产品的口径库，用于亚65纳米（nm）工艺技术。Calibre nmOPC工具和配套的OPC验证工具Calibre OPCverify以业界最高的性能和最低的拥有成本提供了...

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Calibre nmMPC 计算光刻/掩模数据处理

Calibre nmMPC是一种用于芯片设计和验证的工具，提供了专门为电子束掩模书写器开发的优化。这个工具被广泛应用于半导体行业，用于进行芯片级别的物理验证、版图设计和芯片制造。它提供了先进的芯片级别的版图设计和验证功能，有助于工程师们确保他们的芯片设计符合规范并...

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Calibre WORKbench 计算光刻/掩模数据处理

Calibre WORKbench是一个易于使用的环境，用于创建准确的流程模型和经过测试的、生产就绪的工具设置文件。经批准的模型和设置文件可移交给生产用户，以推动交钥匙IC布局RET处理。Calibre WORKbench软件为硅测量创建测试模式，并运行测试作业来...

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Calibre OPCpro 计算光刻/掩模数据处理

Calibre OPC pro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺自由度。Calibre OPC pro使用面向批量的流程，对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形

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Calibre OPCverify 计算光刻/掩模数据处理

Calibre OPCverify是Calibre nmOPC的配套OPC验证工具，是锚定下一代分辨率增强技术和制造解决方案设计的基石技术。当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术（RET）应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因，这导...

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Calibre Computational Lithography 计算光刻/掩模数据处理

Calibre Computational Lithography对集成电路 （IC） 永不满足的需求继续推动更小的关键尺寸。光刻工艺，包括极紫外 （EUV），呈现出越来越复杂和数据量。我们的计算光刻解决方案可实现经济高效的技术支持。与先进工艺节点相关的光刻挑战和...

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Calibre MASKOPT 计算光刻/掩模数据处理

Calibre MASKOPT 是西门子 EDA Calibre 掩模数据准备（MDP）产品族中的掩模数据优化工具，通过对断裂数据进行高级预处理来降低总拍摄次数，从而降低掩模成本和掩模写入时间。该工具可在 45nm 及以下先进技术节点的密集数据集上实现显著的拍摄次...

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Calibre MDPverify 计算光刻/掩模数据处理

Calibre MDPverify是西门子EDA Calibre掩模数据准备（MDP）工具套件中的掩模写入数据校验工具。该工具对照原始GDSII或OASIS版图定义检查最终掩模写入器数据，防止使用错误数据写入掩模；同时支持通过确认最终掩模数据中是否存在所需更改来跟...

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Calibre FRACTURE 计算光刻/掩模数据处理

Calibre FRACTURE 是西门子 Calibre 掩模数据准备（MDP）系列中的断裂工具，将掩模制造数据直接导出到目标掩模写入格式，无需更换工具或创建大型中间文件。支持 MEBES、JEOL、Micronic、NuFlare VSB、MBF、OASIS....

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