产品概述
格创东智设备故障侦测与分类系统（G-FDC）是格创东智面向泛半导体与新能源制造推出的智能设备管理软件，通过变量控制与统计学技术对设备在制程过程中的异常进行侦测分析，并实时执行应对措施，提升设备 OEE 与产品良率。系统覆盖制程建模、数据采集、汇总计算、侦测建模、数据分析、侦测模拟与联动控制全流程，帮助制造企业实现设备状态的实时感知与快速响应。
核心功能
侦测建模
支持参数的侦测建模，可定义侦测维度、数据过滤条件、侦测规则并设定侦测阈值，实现制程异常的自动识别与预警。
数据采集
统一管理设备的采集参数与采集状态，可关联需要采集的参数并定义采集策略，支持多种形式的数据采集渠道与策略管理。
历史数据
提供参数历史值变化曲线与叠加分析图表，支持历史告警记录查询，便于对设备履历数据进行回溯与对比分析。
实时数据
实时侦测参数值并生成动态曲线图表，监控参数的超限状态，实现设备运行状态的即时可视化。
核心优势
全新架构性能优异：采用高性能大数据技术架构，支持高吞吐量、低延时的实时计算，支持高可用的分布式系统部署，支持微服务与容器化部署，资源可弹性扩展。
功能全面完备：支持基于窗口的汇总计算与自定义场景计算，全面支持西电管控规则并支持自定义开发，提供实时数据、履历、模拟的数据分析报表。
产品易用性好：采用 B/S 架构支持浏览器访问，支持多种形式的部署并可本地化，支持基于制程类型的建模并可一键管理上万实例，开放系统接口可自由定制报表。
运维实施方便快捷：提供傻瓜式的系统部署指引，支持虚拟化容器化部署与 HA，初始化配置支持批量导入导出，系统逻辑可配置化，变更逻辑无需编码能力。
应用场景
系统面向面板制造、硅片制造、晶圆制造与芯片制造等场景，对镀膜、蚀刻、曝光、研磨、拉晶、线切、抛光、外延等制程的工艺参数进行管控，帮助降低工艺事故与废品率、提升产品良率。在典型项目中，某面板企业模组厂实现纳管设备 3000 余台、数据点 10 万余个，同时管控侦测实例 20 万余个；某 12 寸芯片制造企业 FDC 系统支持 InterFace A 协议与最高 10Hz 采集频率，30 天数据 1 分钟内出结果并绘制图表。
