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Calibre WORKbench
CalibreWORKbench是一个易于使用的环境，用于创建准确的流程模型和经过测试的、生产就绪的工具设置文件。经批准的模型和设置文件可移交给生产用户，以推动交钥匙IC布局RET处理。CalibreWORKbench软件为硅测量创建测
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Calibre OPCverify
CalibreOPCverify是CalibrenmOPC的配套OPC验证工具，是锚定下一代分辨率增强技术和制造解决方案设计的基石技术。当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术（RET）应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建
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Calibre MASKOPT
CalibreMASKOPT是是一个自由开源的电子书软件套装的一部分，CalibreMASKOPT通过对断裂数据进行高级预处理来降低总放炮次数，从而降低掩模成本和掩模写入时间。CalibreMASKOPT可以在45nm及以下的先进技
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Calibre OPCpro
CalibreOPCpro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺自由度。CalibreOPCpro使用面向批量的流程，对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形
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Calibre OPCsbar
散射条（SBs）是放置在刻线图案边缘附近的亚分辨率、相位或铬条状特征。抗散射条（ASB）只是SBs的倒数，并嵌入到图案中。SBs和ASB改变孤立线和半孤立线航空图像的斜率，以便更好地匹配密集嵌套线的航空图像。SBs有助于在整个音高上保持足够
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Calibre nmMPC
CalibrenmMPC是一种用于芯片设计和验证的工具，提供了专门为电子束掩模书写器开发的优化。这个工具被广泛应用于半导体行业，用于进行芯片级别的物理验证、版图设计和芯片制造。它提供了先进的芯片级别的版图设计和验证功能，有助于工程师们确保
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Calibre MPCpro
CalibreMPCpro是一种针对电子束光刻和掩模蚀刻工艺引入的系统误差的解决方案，基于CalibreOPCpro技术进行光学工艺校正。CalibreMPCpro可纠正雾化、显影和蚀刻加载等工艺效应，以及ebeam邻近效应。掩膜工艺
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Calibre MDPverify
CalibreMDPverify是MentorGraphics提供的CalibreMDP工具套件的一部分，CalibreMDPverify根据原始GDSII定义检查最终掩码写入器数据，以防止使用错误数据写入掩码。它。它通过独立于断裂
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Calibre nmOPC
CalibrenmOPC是第三代光学邻近校正（OPC）工具，它扩展了分辨率增强技术（RET）产品的口径库，用于亚65纳米（nm）工艺技术。CalibrenmOPC工具和配套的OPC验证工具CalibreOPCverify以业界最高的性
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Calibre Computational Lithography
CalibreComputationalLithography对集成电路（IC）永不满足的需求继续推动更小的关键尺寸。光刻工艺，包括极紫外（EUV），呈现出越来越复杂和数据量。我们的计算光刻解决方案可实现经济高效的技术支持。与先进