软件特点
1、支持标准和自定义照明源类型(顶帽、环形、四极、类星体、偶极子、自定义)。
2、用于高NA矢量建模的薄膜堆栈生成,TCCcalc。
3、与光刻模拟器和编辑器集成的快速布局查看器支持GDSII和断裂格式。
4、高级工艺模型(光刻胶、蚀刻等)通过VT5启用默认或用户定义的卷积形状和图像参数。
5、模拟布局视图:光学强度图、晶圆上的打印图像、碎片位置、二维截面强度图、多级打印图像轮廓。
6、支持在小型选定区域执行Calibre批处理工具,以进行快速测试。
1、支持标准和自定义照明源类型(顶帽、环形、四极、类星体、偶极子、自定义)。
2、用于高NA矢量建模的薄膜堆栈生成,TCCcalc。
3、与光刻模拟器和编辑器集成的快速布局查看器支持GDSII和断裂格式。
4、高级工艺模型(光刻胶、蚀刻等)通过VT5启用默认或用户定义的卷积形状和图像参数。
5、模拟布局视图:光学强度图、晶圆上的打印图像、碎片位置、二维截面强度图、多级打印图像轮廓。
6、支持在小型选定区域执行Calibre批处理工具,以进行快速测试。