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功能分类 EDA电子设计自动化 - - -
产品简介

Calibre MPCpro是一种针对电子束光刻和掩模蚀刻工艺引入的系统误差的解决方案，基于Calibre OPCpro技术进行光学工艺校正。Calibre MPCpro可纠正雾化、显影和蚀刻加载等工艺效应，以及ebeam邻近效应。掩膜工艺校正系列是基于规则和模型的产品，用于先进的光掩膜制造，校正系统性掩膜光刻和工艺误差源，确保掩膜关键尺寸特征符合规范。

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制造商Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件 - - -
原产地德国 > 慕尼黑 - - -
授权方式 - - - -
发布时间2024年 - - -
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icon特点优势
特点

1、掩模特征比模具上的实际特征大四倍。

2、准确制作32/22 nm的掩模现在需要对掩模制作步骤进行专门的光学邻近校正。

3、与将掩模误差集中到整个OPC模型中不同，将掩模校正与晶圆校正分离可以简化校正过程并提高整体结果的质量。

4、Calibre掩模工艺校正解决方案应用了Mentor基于模型的OPC技术，并针对电子束掩模书写器进行了优化。

5、基于密度和可变蚀刻偏置建模，改善了高级节点的掩模CD线性度和均匀性。

6、为了完善Mentor的完整掩模合成解决方案，Calibre平台包括用于掩模规则检查和签署的工具，以及用于领先的电子束掩模写入设备的断裂和数据转换。

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客户- - - -

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供应商 - - -

注：软件功能配置信息仅供参考，实际功能配置信息以真实软件为准，解释权归软件制造商所有。