Tanner EDA和Empyrean Aether LE版图编辑工具有什么区别

1、完整的模拟/数模混合IC全定制设计组件

2、OpenAccess，LEF/DEF，Liberty和SDF数据格式支持

3、支持多重抽象级网表仿真：行为级、模块级、门级

4、调试和验证支持System Verilog, Verilog, Verilog-AMS, Verilog-A和VHDL等语言

5、提供内建的库导航器，有效跨越自顶向下和自底向上的层次化设计查看单元视图

6、自顶向下的混合信号仿真

7、已验证的，与综合兼容的DFT支持

8、高速时序分析

 9、全角度版图编辑

 10、实时DRC检查，DRC和LVS验证与Calibre工具兼容

11、使用SDL加速版图设计，可进行自动布局布线，支持HSPICE, PSPICE, Verilog和CDL等格式数据导入

12、支持参数化cell，称为T-cell，可用于可编程接口操作（UPI），创建自动化宏

13、HiPer DevGen可实现参数化器件生成版图

14、支持多Foundry工艺

15、提供多语言菜单(英语，日语，简体、繁体中文，德语，意大利语和俄语等)

16、同一环境下完整的IC和MEMS设计解决方案

17、25年的MEMS设计经验

18、从版图生成3D MEMS模型

19、支持导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式

20、L-Edit提供可视化连接的节点高亮，可以快速查找和定位DRC和LVS问题

21、高度可编程的MEMS版图设计工具，如曲线多边形、多角操作等

22、参数化派生层产生工具，可实现特殊MEMS结构设计

23、完整可视化的多图层几何图形设计

 24、利用工具栏便捷地生成、摆放和对准图形，执行任意角度旋转、翻转、合并、咬和切片操作，指定一个参考点进行编辑操作，如对象旋转、翻转、移动，或使用基点位置进行实例放置等

25、针对MEMS工艺的DRC检查

26、支持附带边界重构的DXF数据格式导入导出

27、支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 进行硅光器件设计

1.友好的用户图形界面环境

用户可对图形界面的工具栏、浮动式视窗、下拉式菜单等进行配置，同时结合PDK提供自动化脚本命令，实现对版图的高效编辑和自动布图等功能，提高设计效率和产能。

2.支持从原理图自动产生版图

创建版图器件布局、创建版图器件端口之间的连接、创建版图线网连接等。版图设计支持ECO的方式，支持通过检查原理图和版图之间的差异自动更新版图信息。在SDL设计流程中，工具支持利用飞线来显示未完成连线的线网连接信息。

3.后端版图设计验证所需的集成环境

Empyrean Aether® LE和物理验证工具Empyrean Argus®无缝集成，支持对版图进行设计规则检查（DRC），支持从原理图产生CDL/SPICE的网表，进行原理图及版图一致性检查（LVS），以保证版图的正确性。