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模块说明
溅射镀膜工艺在各种应用中广泛用于加工镀膜，从玻璃上的装饰镀膜和低辐射镀膜，到当今最严苛应用场合中所用产品上的工程涂层。优化沉积膜属性以及利用溅射靶对于保证最终产品的性能和流程的经济性至关重要。Opera 将精确的有限元分析和详细的等离子体、喷溅和膜沉积模型结合在一起，提供了首款用于设计和优化磁控管的实用工具。
这是可供磁控管和溅射仪的设计人员使用的首款有效的设计仿真工具。在工程和产品设计的许多领域，此类工具已证明能够增强性能、降低成本和缩短开发周期，并帮助创新以增强竞争优势。
Opera 中包含多种仿真功能，其中与磁控管设计人员尤为相关的功能包括：
（1）使用高级有限元模拟进行完整的 3D 系统评估和设计。
（2）仿真期间的磁场计算。
（3）在多磁控管溅射仪环境中包含来自相邻磁控管的杂散场。
（4）自洽带电粒子建模，包括空间电荷和相对论效应。
（5）快速评估设计变体。
（6）多变量、多目标优化。
通过 Opera，设计人员可以预测和优化：
（1）磨蚀槽轮廓。
（2）目标利用率。
（3）基体涂层轮廓。
（4）涂层动态 - 特性和质量。