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公司介绍

上海北恩科技有限公司是一家聚焦于半导体行业,拥有自主核心知识产权,提供特殊集成电路解决方案及掌握高端设计服务能力的公司。公司涉猎三块核心业务:

1. FPGA/ASIC的图像处理及算法IP库

2. FPGA验证/流程管理

3. 芯片EDA云解决方案

北恩科技总部位于上海,在北京、深圳和西安分别设有研发中心及办事机构。公司目前人员规模近50人,核心团队来自国内知名高校,已有的战略核心客户聚焦在汽车、医疗 、半导体、高校研究院等领域,与Siemens EDA、新思科技和芯动科技建立了战略伙伴关系。

服务介绍

技术培训 E-Learning 软件销售

授权资质
Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件
已核实
Siemens Digital Industries Software 西门子数字工业软件
授权[代理]
中国
核实时间:2024-03-07*
成都派兹互连电子技术有限公司
已核实
成都派兹互连电子技术有限公司
授权[代理]
中国
核实时间:2024-03-04*
DownStream Technologies, LLC
DownStream Technologies, LLC
授权[代理]
中国
等待更新
Synopsys Inc.
Synopsys Inc.
代理[代理]
中国
等待更新
* 已核实仅代表在核实的时间点核实通过

Calibre MASKOPT

CalibreMASKOPT通过对断裂数据进行高级预处理来降低总放炮次数,从而降低掩模成本和掩模写入时间。CalibreMASKOPT可以在45nm及以下的先进技术节点的数据集上实现高达20%的放炮次数减少

Calibre MDPverify

CalibreMDPverify根据原始GDSII定义检查最终掩码写入器数据,以防止使用错误数据写入掩码。它是MentorGraphics提供的CalibreMDP工具套件的一部分。它通过独立于断裂步骤确认最终掩模数据中是否存在所需的

Calibre InRoute

MentorGraphics开发了CalibreInRoute,通过将Calibre签准功能引入地点和路线环境,支持先进节点设计的制造关闭CalibreInRoute通过在Calibre平台(制造签准的行业领导者)与Mentor的

Calibre MAPI

CalibreMAPI应用程序编程接口提供面向对象的iTCL类和函数,用于快速高效地开发计量应用程序。它通过CalibreWORKbench访问,方便易用。CalibreMAPI扩展了CalibreMDPview中可用的tcl编程语

Calibre OPCpro

CalibreOPCpro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正,以提高产量和工艺自由度。CalibreOPCpro使用面向批量的流程,对布局进行更改,以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形

Calibre MDPview

CalibreMDPview可通过各自的工作组,以GDSII和OASIS格式,以及所有流行的掩模书写器图案格式和数据集,快速方便地查看设计数据。它是MentorGraphics提供的CalibreMDP工具套件的一部分

Calibre WORKbench

CalibreWORKbench是一个易于使用的环境,用于创建准确的流程模型和经过测试的、生产就绪的工具设置文件。经批准的模型和设置文件可移交给生产用户,以推动交钥匙IC布局RET处理。CalibreWORKbench软件为硅测量创建测

Calibre nmOPC

CalibrenmOPC是第三代光学邻近校正(OPC)工具,它扩展了分辨率增强技术(RET)产品的口径库,用于亚65纳米(nm)工艺技术。CalibrenmOPC工具和配套的OPC验证工具CalibreOPCverify以业界最高的性

Calibre OPCverify

当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术(RET)应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因,这导致了更高的硅故障率。为了减少错误,在将设计发送给掩模或晶圆制造商之前,需要一个OPC后验证步骤来检测故障

Calibre nmMPC

CalibreMaskProcessCorrection(MPC)提供了专门为电子束掩模书写器开发的优化。新的校正和建模功能提高了高级节点的掩模CD线性度和一致性,尤其是对于较小的特征尺寸(如SRAFs)