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MentorGraphics开发了CalibreInRoute，通过将Calibre签准功能引入地点和路线环境，支持先进节点设计的制造关闭CalibreInRoute通过在Calibre平台（制造签准的行业领导者）与Mentor的

当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术（RET）应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因，这导致了更高的硅故障率。为了减少错误，在将设计发送给掩模或晶圆制造商之前，需要一个OPC后验证步骤来检测故障

CalibreWORKbench是一个易于使用的环境，用于创建准确的流程模型和经过测试的、生产就绪的工具设置文件。经批准的模型和设置文件可移交给生产用户，以推动交钥匙IC布局RET处理。CalibreWORKbench软件为硅测量创建测

CalibreOPCpro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺自由度。CalibreOPCpro使用面向批量的流程，对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形

散射条（SBs）是放置在刻线图案边缘附近的亚分辨率、相位或铬条状特征。抗散射条（ASB）只是SBs的倒数，并嵌入到图案中。SBs和ASB改变孤立线和半孤立线航空图像的斜率，以便更好地匹配密集嵌套线的航空图像。SBs有助于在整个音高上保持足够

CalibreFraction直接以目标掩码写入格式导出掩码生成数据，无需更改工具或创建大型中间文件。CalibreBreak的版本可用于Micronic、JEOL、MEBES、东芝和日立格式

CalibreMDPverify根据原始GDSII定义检查最终掩码写入器数据，以防止使用错误数据写入掩码。它是MentorGraphics提供的CalibreMDP工具套件的一部分。它通过独立于断裂步骤确认最终掩模数据中是否存在所需的

CalibreMDPview可通过各自的工作组，以GDSII和OASIS格式，以及所有流行的掩模书写器图案格式和数据集，快速方便地查看设计数据。它是MentorGraphics提供的CalibreMDP工具套件的一部分

CalibreMDPmerge能够实现从物理验证和分辨率增强技术（RET）到完成掩模数据准备的连续流程。CalibreBreak以VSB11格式生成单独的图案文件，优化了最快的掩模写入和严格的CD控制后，CalibreMDPmerge

CalibreMAPI应用程序编程接口提供面向对象的iTCL类和函数，用于快速高效地开发计量应用程序。它通过CalibreWORKbench访问，方便易用。CalibreMAPI扩展了CalibreMDPview中可用的tcl编程语