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培训课程一：ZEMAX 成像光学系统设计

课程大纲：

01 Zemax OpticStudio简介

02 数据库；镜头库，材料库

03 玻璃材料以及如何定义新材料

04 像差简介以及OpticStudio中的像差图表

05 优化

06 局部/全局/锤形优化/优化操作数

07 优化实例：单透镜/双透镜

08 热分析

09 二元面及衍射光学表面

10 鬼像及杂散光分析

11 调制传递函数和成像质量评估

12 双高斯镜头的设计与优化

13 OpticStudio中的坐标系统

14 坐标间端面及其使用技巧

15 序列模式中饿棱镜模型

16 实例：扫描振镜

17 实例：科勒照明

18 转换为非序列模式

19 黑盒系统

20 OpticStudio中的优化工具

21 寻找更佳非球面/转换非球面类型

22 公差分析简介

23 制造误差和装配误差

24 公差评价标准

25 灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析

26 公差补偿器

27 公差操作数

28 公差示例：对单透镜/库克三片镜进行公差分析

29 公差报告

30 镜片/CAD制图

培训课程二：ZEMAX 照明设计与杂散光分析

课程大纲

01 非序列光线追迹

02 光源物体

03 探测器物体

04 分辨率 VS 噪声

05 照明单位 & 几何量

06 光源建模

07 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型

08 光源建模：Source Radial

09 光原建模：内置几何模型

10 光原建模：使用测量数据

11 生成 Source Model 光线

12 模拟光源光谱

13 色度学

14 建模彩色光源

15 测量颜色数据

16 照明系统

17 抛物面反射器

18 Sobol 采样

19 BMP 位图优化

20 复合抛物面聚光器 CPC

21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列

22 复杂几何体

23 嵌套规则

24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体

25 CAD 导入 & 导出

26 使用混合模式

27 偏振光线追迹

28 物体属性：面分组 & 属性

29 光线分裂

30 X-Cube 棱镜

31 简单光线分裂

32 非序列设置

33 故障排查：光线追迹中止条件

34 故障排查：几何错误

35 “ Inside of ” 标识

36 故障排查：胶合距离

37 故障排查：面元物体 & 绘图精度

38 序列模式转换成非序列模式

39 杂散光分析介绍

40 散射

41 杂散光分析工具

42 Maksutov 杂散光分析

43 非序列鬼像分析

44 非序列系统公差分析

课程信息

课程费用：费用均为 1680元/人

活动优惠：同时报名参加享九折优惠

培训形式：线上培训

课程日期：2020 年 10 月 24 日 - 25 日  （培训一）

                              10 月 26 日-  27 日  （培训二）

课程时间： 9 ：00 - 17 ： 00

主办单位：武汉宇熠科技有限公司

联系方式：

电话：027-87878386

邮箱：market@ueotek.com

官网：www.ueotek.com

备注：

1、报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠有权取消或延迟本门课程。

2、具体情况以开课前一周通知为准，本活动最终解释权归武汉宇熠科技有限公司所有。

3、本次培训包括两场培训课程，您可以自主挑选。如同时报名的话可享受九折优惠。

(参加一场培训，可直接购买。同时报名，可直接联系工作人员享受优惠价格。如有其他疑问，请联系工作人员。）