第28期 | Ansys Zemax 成像设计线下培训

2013年至今，武汉宇熠已经陪伴各位光学同行走过武汉、北京、杭州、深圳、成都、西安等地，完成了百余期线上线下课程和研讨会，培养了来自全国各地近2000名学员。
武汉宇熠具备完善的教学体系、良好的口碑和众多光机电学习资料，也拥有经验丰富的光学工程师团队，老师全程线下授课、教学内容通俗易懂，能解决学员现有的项目问题。
武汉宇熠为学员提供专业的培训教室，始终围绕“实操演练”，旨在让学员能在实际上手操作中发现问题，解决问题，突破传统成长方式，快速获得光机电技术提升。

01培训介绍 
由于很多客户反馈错过了上次的线下培训，武汉宇熠将在4月24日-26日举办为期3天的成像设计培训活动！

 

本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』，由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准，可直接与老师面对面交流提问，当场解决记忆深刻。

注意：

1、统一发送配套的培训教材。

2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。

3、为提高培训效率，本次培训采用小班授课模式。培训名额有限，欲报从速。

4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠将取消或延迟本门课程， 具体情况以开课前一周通知为准。

02培训费用

费用：¥ 3980元 / 人 

· 三人及以上组团报名可享受八折优惠；

· 费用含培训、教材、发票和证书，其他费用自理；

· 发票统一开“培训服务费”。
报名方式：扫码报名